[发明专利]一种阵列基板及其制备方法有效
申请号: | 202010433344.7 | 申请日: | 2020-05-21 |
公开(公告)号: | CN111596494B | 公开(公告)日: | 2023-10-03 |
发明(设计)人: | 赵赫;谢克成 | 申请(专利权)人: | TCL华星光电技术有限公司 |
主分类号: | G02F1/1362 | 分类号: | G02F1/1362;G02F1/1368;G02F1/1337;G02F1/1339 |
代理公司: | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人: | 刁文魁 |
地址: | 518132 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种阵列基板及其制备方法,一种阵列基板,包括第一衬底;色阻层,设于第一衬底上方,色阻层为若干色阻单元排列的矩阵,设于矩阵边侧的色阻单元,其远离第一衬底的一侧表面处于同一水平面;以及PI层,设于色阻层远离第一衬底的一侧表面。本发明的有益效果在于:本发明的一种阵列基板及其制备方法,通过减少阵列基板中部分第一绝缘层的厚度,从而减少靠近非显示区的各色阻单元之间的高度差,便于PI溶液的涂布,避免PI在相邻色阻单元的接缝处堆积,避免PI溶液在显示面板的非显示区处堆积造成显示不良的现象,将挡墙的位置向靠近显示区一侧移动,降低框胶断裂的风险,提升显示面板的使用寿命,提升产品品质。 | ||
搜索关键词: | 一种 阵列 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于TCL华星光电技术有限公司,未经TCL华星光电技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202010433344.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。