[发明专利]薄膜晶体管制备方法以及薄膜晶体管有效

专利信息
申请号: 202010439482.6 申请日: 2020-05-22
公开(公告)号: CN111599868B 公开(公告)日: 2022-03-08
发明(设计)人: 谭志威 申请(专利权)人: TCL华星光电技术有限公司
主分类号: H01L29/786 分类号: H01L29/786;H01L21/336;H01L29/10;H01L27/32
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 刁文魁
地址: 518132 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明提供一种薄膜晶体管制备方法和薄膜晶体管,薄膜晶体管包括衬底、有源层、钝化层,以及位于钝化层上的源极和漏极,有源层包括背沟道区,背沟道区包括背沟道层、以及设置在背沟道层上的刻蚀修复层,刻蚀修复层提高了薄膜晶体管的稳定性;刻蚀修复层材料的断键数量少于背沟道层材料的断键数量,有效降低了背沟道区中断键的数量。
搜索关键词: 薄膜晶体管 制备 方法 以及
【主权项】:
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