[发明专利]薄膜晶体管制备方法以及薄膜晶体管有效
申请号: | 202010439482.6 | 申请日: | 2020-05-22 |
公开(公告)号: | CN111599868B | 公开(公告)日: | 2022-03-08 |
发明(设计)人: | 谭志威 | 申请(专利权)人: | TCL华星光电技术有限公司 |
主分类号: | H01L29/786 | 分类号: | H01L29/786;H01L21/336;H01L29/10;H01L27/32 |
代理公司: | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人: | 刁文魁 |
地址: | 518132 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供一种薄膜晶体管制备方法和薄膜晶体管,薄膜晶体管包括衬底、有源层、钝化层,以及位于钝化层上的源极和漏极,有源层包括背沟道区,背沟道区包括背沟道层、以及设置在背沟道层上的刻蚀修复层,刻蚀修复层提高了薄膜晶体管的稳定性;刻蚀修复层材料的断键数量少于背沟道层材料的断键数量,有效降低了背沟道区中断键的数量。 | ||
搜索关键词: | 薄膜晶体管 制备 方法 以及 | ||
【主权项】:
暂无信息
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