[发明专利]尾气处理装置及半导体设备在审
申请号: | 202010443541.7 | 申请日: | 2020-05-22 |
公开(公告)号: | CN111569594A | 公开(公告)日: | 2020-08-25 |
发明(设计)人: | 周厉颖;杨帅;杨慧萍 | 申请(专利权)人: | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
主分类号: | B01D53/00 | 分类号: | B01D53/00;H01L21/67 |
代理公司: | 北京思创毕升专利事务所 11218 | 代理人: | 孙向民;廉莉莉 |
地址: | 100176 北京市大*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种尾气处理装置及半导体设备,装置包括:位于反应腔室外部且与反应腔室连通的低压排气支路、常压排气支路和尾气处理单元;低压排气支路上设置有低压控制元件,且一端与反应腔室的尾气输出端连通,另一端连接至尾气处理单元,用于在低压工艺中将反应腔室内的工艺尾气排出至尾气处理单元,反应腔室内的气压维持在小于常压的第一预设气压;常压排气支路设置有常压控制元件,且一端与反应腔室的尾气输出端连通,另一端连接至尾气处理单元,用于在常压工艺中将反应腔室内的工艺尾气排出至尾气处理单元,使反应腔室内的气压维持在等于常压的第二预设气压。实现了低压排气和常压排气间的自由切换,扩展机台可做的工艺,并提高生产效率。 | ||
搜索关键词: | 尾气 处理 装置 半导体设备 | ||
【主权项】:
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