[发明专利]基板处理方法、基板处理装置以及计算机可读存储介质有效
申请号: | 202010450886.5 | 申请日: | 2017-02-22 |
公开(公告)号: | CN111580347B | 公开(公告)日: | 2023-06-06 |
发明(设计)人: | 野田康朗;西山直 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;H01L21/66;H01L21/67 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供一种基板处理方法、基板处理装置以及计算机可读存储介质。基板处理方法包括:从照相机取得被处理基板的端面的拍摄图像;对所述被处理基板的端面的拍摄图像进行图像处理而取得所述被处理基板的端面的形状数据;以及基于翘曲量已知的基准基板的端面的形状数据以及利用图像处理得到的所述被处理基板的端面的形状数据对所述被处理基板的翘曲量进行计算。 | ||
搜索关键词: | 处理 方法 装置 以及 计算机 可读 存储 介质 | ||
【主权项】:
暂无信息
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