[发明专利]光刻润湿液及其应用在审
| 申请号： | 202010472741.5 | 申请日： | 2020-05-29 |
| 公开（公告）号： | CN111474833A | 公开（公告）日： | 2020-07-31 |
| 发明（设计）人： | 宋伟红;余伟 | 申请（专利权）人： | 常州时创新材料有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 苏州曼博专利代理事务所(普通合伙) 32436 | 代理人： | 宋俊华 |
| 地址： | 213300 江苏省常*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光刻润湿液，其含有水、有机碱和活性剂；所述有机碱为胍类有机碱或哌嗪类有机碱；所述活性剂为EO/PO嵌段共聚物与水溶性聚合物的组合物。本发明光刻润湿液适合于45纳米，尤其是14纳米及以下技术节点的光刻工艺，可进一步降低光阻倒塌率和改善图案粗糙度，形成更为精细和完整的光阻图案，达到工艺要求的技术指标，提升良品率和可靠性。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 润湿 及其 应用 | ||
【主权项】：
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