[发明专利]产生遮罩的方法及执行此方法的投影装置在审
| 申请号： | 202010475157.5 | 申请日： | 2020-05-29 |
| 公开（公告）号： | CN113747130A | 公开（公告）日： | 2021-12-03 |
| 发明（设计）人： | 林奇葳;彭健钧;涂勋城 | 申请（专利权）人： | 中强光电股份有限公司 |
| 主分类号： | H04N9/31 | 分类号： | H04N9/31 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 刘佳斐 |
| 地址： | 中国台湾新竹*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明提供一种产生遮罩的方法及可执行上述方法的投影装置。所述方法包括：投射第一图样至投影面，其中投影面包括非平面区域，且第一图样包括多个第一直线；对呈现有第一图样的投影面拍摄第一影像；在第一影像中找出至少一第一特定线段，其中各第一特定线段包括至少一第一转折点；当判定第一影像中的至少一第一转折点适合用于描绘第一轮廓，则依据至少一第一转折点描绘第一轮廓；以及当判定第一轮廓匹配于非平面区域的区域轮廓，则基于第一轮廓产生第一遮罩图样，其中第一遮罩图样用以遮蔽第一轮廓的外部区域。本发明的产生遮罩的方法及投影装置可适应性地依据非平面区域的区域轮廓产生对应的遮罩图样。 | ||
| 搜索关键词： | 产生 方法 执行 投影 装置 | ||
【主权项】：
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