[发明专利]投影系统及其自适应性调整方法在审
| 申请号： | 202010475171.5 | 申请日： | 2020-05-29 |
| 公开（公告）号： | CN113747131A | 公开（公告）日： | 2021-12-03 |
| 发明（设计）人： | 涂勋城;彭健钧;林奇葳 | 申请（专利权）人： | 中强光电股份有限公司 |
| 主分类号： | H04N9/31 | 分类号： | H04N9/31 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 刘佳斐 |
| 地址： | 中国台湾新竹*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明提出一种投影系统及其自适应性调整方法。投影系统包括投影装置、取像装置以及处理装置。投影装置依序地投射格点阵列的多个子格点阵列至投影面的投影区域。取像装置依序地拍摄投射在投影面上的多个子格点阵列，以输出多个格点影像。处理装置分析多个格点影像，以取得每一多个格点影像中的多个投影格点的多个格点坐标以及格点排序。处理装置依据多个格点坐标以及格点排序来判断多个投影格点的至少一部分为多个有效格点，并且依据多个有效格点来调整投影装置。本发明提出的投影系统及其自适应性调整方法具有提供良好投影品质的效果。 | ||
| 搜索关键词： | 投影 系统 及其 自适应性 调整 方法 | ||
【主权项】：
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