[发明专利]一种形貌参数测量方法、装置及测量设备有效
| 申请号： | 202010476425.5 | 申请日： | 2020-05-29 |
| 公开（公告）号： | CN111637849B | 公开（公告）日： | 2021-11-26 |
| 发明（设计）人： | 张晓雷;施耀明;叶星辰;张厚道 | 申请（专利权）人： | 上海精测半导体技术有限公司 |
| 主分类号： | G01B11/24 | 分类号： | G01B11/24 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 孟金喆 |
| 地址： | 201703 上海市青浦区赵巷*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种形貌参数测量方法、装置及测量设备。该方法包括：根据光栅模型的理论光谱建立理论光谱数据库，其中，所述光栅模型包括非重复结构层和连续重复结构层，所述理论光谱根据所述光栅模型上方的入射层的反射特性矩阵计算得到，且所述入射层的反射特性矩阵根据所述非重复结构层的反射特性矩阵和所述连续重复结构层的散射特性矩阵计算得到；在所述理论光谱数据库中查找与待测量样品的测量光谱匹配的理论光谱；根据所述理论光谱确定所述待测量样品的形貌参数。通过上述技术方案，提高理论光谱的计算效率，进而提高形貌参数的测量效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 形貌 参数 测量方法 装置 测量 设备 | ||
【主权项】：
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