[发明专利]一种铸锭单晶用底部高纯度免喷涂层制备方法在审
| 申请号： | 202010476665.5 | 申请日： | 2020-05-29 |
| 公开（公告）号： | CN111570220A | 公开（公告）日： | 2020-08-25 |
| 发明（设计）人： | 苏成;邓亮亮;邢夫龙;孙春浩;王晨;王海果 | 申请（专利权）人： | 徐州协鑫太阳能材料有限公司 |
| 主分类号： | B05D1/38 | 分类号： | B05D1/38;B05D7/00;B05D7/24;C04B28/00;C04B26/00;C30B28/06;C30B29/06 |
| 代理公司： | 北京淮海知识产权代理事务所(普通合伙) 32205 | 代理人： | 刘振祥 |
| 地址： | 221000 江苏省徐*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 一种铸锭单晶用底部高纯度免喷涂层制备方法，将熔融石英颗粒和去离子水置于球磨机中磨制，取出后置于分散机中，再加入硅溶胶、熔融石英粉料、熔融石英粉料、高纯陶瓷粘结剂搅拌后形成浆料A；将熔融石英颗粒、去离子水置于球磨机中磨制，取出后置于搅拌机中，再加入硅溶胶、熔融石英粉料搅拌形成浆料B；将熔融石英颗粒、结晶态石英置于球磨机中磨制，取出后将石英浆料、硅溶胶、粘结剂和水混合后形成浆料C；将氮化硅、去离子水置于搅拌机中，再加入氮化硅助烧剂、硅溶胶、高纯粘结剂充分搅拌后形成浆料D；依次制作底部衬平层、粗糙疏松层、石英致密隔离层和氮化硅致密隔离层。该方法可以有效降低铸锭单晶底部红区，并可降低位错等缺陷的增殖。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 铸锭 单晶用 底部 纯度 喷涂 制备 方法 | ||
【主权项】：
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