[发明专利]曝光装置、平面显示器的制造方法、组件制造方法、及曝光方法在审
| 申请号： | 202010477970.6 | 申请日： | 2016-09-29 |
| 公开（公告）号： | CN111650818A | 公开（公告）日： | 2020-09-11 |
| 发明（设计）人： | 青木保夫;原笃史;下山隆司;川口透;岛竹克大;野田伊织 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 王天尧;汤在彦 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种曝光装置、平面显示器的制造方法、组件制造方法、及曝光方法，其中，液晶曝光装置经由投影光学系统(16)以照明光使基板(P)曝光，其具备：保持基板(P)的基板保持具(34)、包含读头单元(60)与标尺(52、56)并根据读头单元(60)的输出取得基板保持具(34)的位置信息的基板编码器系统(50)、以及使基板保持具(34)上的读头单元(60)与标尺(52)中的一方相对于另一方相对移动的驱动部。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 平面 显示器 制造 方法 组件 | ||
【主权项】：
暂无信息
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