[发明专利]半导体结构有效
申请号: | 202010485997.X | 申请日: | 2020-06-01 |
公开(公告)号: | CN111584638B | 公开(公告)日: | 2022-05-06 |
发明(设计)人: | 张钦福;林昭维;朱家仪;童宇诚;赖惠先 | 申请(专利权)人: | 福建省晋华集成电路有限公司 |
主分类号: | H01L29/78 | 分类号: | H01L29/78;H01L29/06;H01L29/423 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人: | 王晓玲 |
地址: | 362200 福建省泉州*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | 本发明公开了一种半导体结构,包括衬底,所述衬底上有一鳍状结构,浅沟槽隔离结构,位于所述衬底中,其中所述浅沟槽隔离结构具有一阶梯状顶面,并具有第一顶面以及高于所述第一顶面的第二顶面,以及一栅极结构,跨越部分所述浅沟槽隔离结构以及部分所述鳍状结构,其中所述栅极结构具有一阶梯状的底面。 | ||
搜索关键词: | 半导体 结构 | ||
【主权项】:
暂无信息
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