[发明专利]半导体结构有效

专利信息
申请号: 202010485997.X 申请日: 2020-06-01
公开(公告)号: CN111584638B 公开(公告)日: 2022-05-06
发明(设计)人: 张钦福;林昭维;朱家仪;童宇诚;赖惠先 申请(专利权)人: 福建省晋华集成电路有限公司
主分类号: H01L29/78 分类号: H01L29/78;H01L29/06;H01L29/423
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 王晓玲
地址: 362200 福建省泉州*** 国省代码: 福建;35
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摘要: 发明公开了一种半导体结构,包括衬底,所述衬底上有一鳍状结构,浅沟槽隔离结构,位于所述衬底中,其中所述浅沟槽隔离结构具有一阶梯状顶面,并具有第一顶面以及高于所述第一顶面的第二顶面,以及一栅极结构,跨越部分所述浅沟槽隔离结构以及部分所述鳍状结构,其中所述栅极结构具有一阶梯状的底面。
搜索关键词: 半导体 结构
【主权项】:
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