[发明专利]一种基于平面工艺的异质结三维磁场测量霍尔传感器在审

专利信息
申请号: 202010487634.X 申请日: 2020-06-02
公开(公告)号: CN111682104A 公开(公告)日: 2020-09-18
发明(设计)人: 钟智勇;彭凌飞;金立川;唐晓莉;文天龙;廖宇龙;张怀武 申请(专利权)人: 电子科技大学
主分类号: H01L43/04 分类号: H01L43/04;H01L43/06;H01L43/14;G01R33/07
代理公司: 电子科技大学专利中心 51203 代理人: 吴姗霖
地址: 611731 四川省成*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 一种基于平面工艺的异质结三维磁场测量霍尔传感器,属于磁测量领域。所述霍尔传感器包括衬底,以及形成于衬底之上、位于中心的正方体结构的中心电极,形成于衬底之上、与中心电极的四个侧面紧密接触的四个相同的十字形磁感应区域,所述十字形磁感应区域包括自下而上依次设置的沟道层、隔离层、帽层和钝化层,隔离层中设置δ掺杂层;十字形磁感应区域中,远离中心电极的末端设置接地电极,接地电极完全覆盖末端表面,两臂的末端设置测量电极,测量电极完全覆盖末端表面。本发明霍尔传感器在不添加其他有源层、仅采用异质结形成一层磁感应区域的前提下,成功实现了X、Y、Z三个方向的磁场感应,并且具有较高的灵敏度。
搜索关键词: 一种 基于 平面 工艺 异质结 三维 磁场 测量 霍尔 传感器
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