[发明专利]一种650V高压VDMOS器件在审
申请号: | 202010499106.6 | 申请日: | 2020-06-04 |
公开(公告)号: | CN111564500A | 公开(公告)日: | 2020-08-21 |
发明(设计)人: | 冯羽;张峰 | 申请(专利权)人: | 杭州华芯微科技有限公司 |
主分类号: | H01L29/78 | 分类号: | H01L29/78;H01L29/06;H01L21/336 |
代理公司: | 北京博维知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11486 | 代理人: | 张倩 |
地址: | 310018 浙江省杭州市江干区*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明涉及一种650V高压VDMOS器件,包括金属场版,金属场版位于高压VDMOS器件的顶层,所述金属场版的尺寸为2460um*2460um,金属场版表面经过腐蚀形成一圈H非金属区和一圈F非金属区;所述H非金属区、F非金属区均为等宽非金属区;所述H非金属区、F非金属区均在金属版场的四角上平滑过渡,对应形成过渡部H1、过渡部F1;所述H非金属区除过过渡部H1的部分与所述金属场版的对应边缘平行设置,呈平直状;所述F非金属区除过过渡部F1的部分呈平直状;所述F非金属区与所述金属场版边缘平行的其中一边向G金属区凸出形成方形突出部。本申请在解决耐压测试打火问题的同时不改变芯片面积,成本不会增加,同时还大大提升了高压VDMOS的良品率,良品率可以达到95%。 | ||
搜索关键词: | 一种 650 高压 vdmos 器件 | ||
【主权项】:
暂无信息
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