[发明专利]具有背腔结构的器件及其形成方法有效
| 申请号： | 202010501061.1 | 申请日： | 2020-06-04 |
| 公开（公告）号： | CN111620300B | 公开（公告）日： | 2023-07-28 |
| 发明（设计）人： | 王红海;刘国安;吕林静 | 申请（专利权）人： | 绍兴中芯集成电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | B81C1/00 | 分类号： | B81C1/00;B81B7/00;B81B7/02 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 曹廷廷 |
| 地址： | 312000 浙*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种具有背腔结构的器件及其形成方法。在刻蚀衬底以形成背腔时利用保护层覆盖功能层，并在形成背腔后可直接利用刻蚀工艺去除所述保护层，从而在去除保护层时不会对功能层造成较大的撕扯，避免了功能层被破坏的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 结构 器件 及其 形成 方法 | ||
【主权项】：
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