[发明专利]半导体装置在审

专利信息
申请号: 202010512067.9 申请日: 2020-06-08
公开(公告)号: CN112117276A 公开(公告)日: 2020-12-22
发明(设计)人: 金永埈;金硕炫;朴晋亨;宋昊柱;李蕙兰;金奉秀;金成禹 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: H01L27/108 分类号: H01L27/108;H01L21/8242
代理公司: 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 代理人: 张逍遥;薛义丹
地址: 韩国京畿*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 提供了一种半导体装置。所述半导体装置包括位线结构、第一盖图案、第二盖图案、第一接触插塞结构、第二接触插塞结构和电容器。位线结构在单元区域和虚设区域上延伸。第一盖图案在单元区域上与位线结构相邻。第二盖图案在虚设区域上与位线结构相邻。第一接触插塞结构在单元区域上与位线结构和第一盖图案相邻,并且包括顺序地堆叠的下接触插塞和第一上接触插塞。第二接触插塞结构在虚设区域上与位线结构和第二盖图案相邻,并且包括顺序地堆叠的虚设下接触插塞和第二上接触插塞。电容器在单元区域上与第一接触插塞结构的上表面接触。
搜索关键词: 半导体 装置
【主权项】:
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