[发明专利]一种过滤装置及半导体加工设备在审

专利信息
申请号: 202010515631.2 申请日: 2020-06-08
公开(公告)号: CN111714974A 公开(公告)日: 2020-09-29
发明(设计)人: 宋晓彬;赵福平 申请(专利权)人: 北京北方华创微电子装备有限公司
主分类号: B01D46/00 分类号: B01D46/00;H01L31/18;C23C16/44;C23C16/505
代理公司: 北京国昊天诚知识产权代理有限公司 11315 代理人: 施敬勃
地址: 100176 北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开一种过滤装置及半导体加工设备,所公开的过滤装置用于半导体加工设备,过滤装置包括壳体(100)和滤芯(200),其中:所述壳体(100)具有第一内腔(110)、入口(120)和出口(130),所述滤芯(200)设置于所述第一内腔(110),所述入口(120)与所述第一内腔(110)连通,所述滤芯(200)具有第二内腔(210),所述出口(130)与所述第二内腔(210)连通,所述滤芯(200)开设有多个滤孔,所述第一内腔(110)与所述第二内腔(210)通过所述滤孔连通。上述方案能够解决硅片加工过程中反应腔室内粉尘量较大的问题。
搜索关键词: 一种 过滤 装置 半导体 加工 设备
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