[发明专利]一类含羟肟酸基团的二芳基乙烯类LSD1/HDACs双靶点抑制剂、其制备方法及应用有效
| 申请号： | 202010516850.2 | 申请日： | 2020-06-09 |
| 公开（公告）号： | CN111592487B | 公开（公告）日： | 2022-07-19 |
| 发明（设计）人： | 段迎超;靳林峰;关圆圆;袁航;文郁康;陈书慧;秦文平;张少杰 | 申请（专利权）人： | 新乡医学院 |
| 主分类号： | C07D213/61 | 分类号： | C07D213/61;C07D213/55;C07D213/56;C07C69/84;C07C259/10;C07C67/343;A61P35/00 |
| 代理公司： | 郑州联科专利事务所(普通合伙) 41104 | 代理人： | 杨海霞 |
| 地址： | 453003 *** | 国省代码： | 河南;41 |
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| 摘要： |
本发明涉及一类含有羟肟酸基团的二芳基乙烯类LSD1/HDACs双靶点抑制剂、其制备方法及在制备抗肿瘤药物中的应用，属于药物化学技术领域。所述的化合物具有如下通式： |
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| 搜索关键词： | 一类 含羟肟酸 基团 二芳基 乙烯 lsd1 hdacs 双靶点 抑制剂 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
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