[发明专利]阳离子氟聚合物复合抛光垫有效
| 申请号： | 202010521668.6 | 申请日： | 2020-06-10 |
| 公开（公告）号： | CN112059898B | 公开（公告）日： | 2022-10-21 |
| 发明（设计）人： | M·R·加丁科 | 申请（专利权）人： | 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/24 | 分类号： | B24B37/24 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 徐鑫;陈哲锋 |
| 地址： | 美国特*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种聚合物‑聚合物复合抛光垫，可用于抛光或平坦化半导体、光学和磁性基底中至少一个的基底。聚合物‑聚合物复合抛光垫包括具有抛光表面的抛光层以及形成抛光层的聚合物基质。所述聚合物基质是亲水性的，如在蒸馏水中浸泡5分钟后用pH为7的蒸馏水在10μm rms的表面粗糙度下测量的。具有含氮端基的阳离子氟聚合物颗粒嵌入所述聚合物基质中。当用含有阴离子胶态二氧化硅的浆料抛光时，所述阳离子氟聚合物颗粒可以提高图案化晶片上的基底的抛光去除速率。 | ||
| 搜索关键词： | 阳离子 聚合物 复合 抛光 | ||
【主权项】：
暂无信息
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