[发明专利]掩膜版有效
| 申请号： | 202010525146.3 | 申请日： | 2020-06-10 |
| 公开（公告）号： | CN111500981B | 公开（公告）日： | 2022-06-24 |
| 发明（设计）人： | 周俊吉;郭登俊;吕文旭;马超 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/12;C23C14/24 |
| 代理公司： | 北京博思佳知识产权代理有限公司 11415 | 代理人： | 张相钦 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种掩膜版，所述掩膜版包括掩膜条及支撑掩膜，所述掩膜条包括多个掩膜开口区，所述支撑掩膜包括支撑条；所述掩膜条包括支撑部，所述支撑部的强度大于掩膜条除支撑部以外部分的强度，所述支撑部位于相邻的两个掩膜开口区之间，所述支撑部在所述支撑掩膜上的正投影与所述支撑条至少部分重合，所述支撑条抵靠于所述支撑部以对所述掩膜条进行支撑。支撑条通过支撑部对掩膜条的相邻掩膜开口区之间的区域进行支撑，避免掩膜条发生弯曲变形，从而提高蒸镀形成的膜层的位置精度。 | ||
| 搜索关键词： | 掩膜版 | ||
【主权项】：
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