[发明专利]具有阻变存储层的非易失性存储器件在审

专利信息
申请号: 202010527827.3 申请日: 2020-06-11
公开(公告)号: CN112466903A 公开(公告)日: 2021-03-09
发明(设计)人: 韩在贤;刘香根;李世昊 申请(专利权)人: 爱思开海力士有限公司
主分类号: H01L27/24 分类号: H01L27/24;H01L29/10;H01L29/417;H01L29/423
代理公司: 北京弘权知识产权代理事务所(普通合伙) 11363 代理人: 许伟群;阮爱青
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 本申请公开了一种具有阻变存储层的非易失性存储器件。根据实施例的非易失性存储器件包括:衬底;源电极结构,其设置在衬底上;沟道结构,其被设置为与源电极结构的侧壁表面接触;阻变存储层,其设置在沟道结构的侧壁表面上;漏电极结构,其被设置为与阻变存储层接触;多个栅极电介质结构,其在第一方向上延伸并被设置为在第二方向上彼此间隔开;以及多个栅电极结构,其被设置为在多个栅极电介质结构中在第一方向上延伸。
搜索关键词: 具有 存储 非易失性存储器
【主权项】:
暂无信息
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