[发明专利]一种用于50~100nm波段的高次谐波抑制滤片及其制备方法在审
| 申请号： | 202010534058.X | 申请日： | 2020-06-12 |
| 公开（公告）号： | CN111580207A | 公开（公告）日： | 2020-08-25 |
| 发明（设计）人： | 金宇;陈溢祺;朱忆雪;冀斌;朱东风;朱运平;金长利 | 申请（专利权）人： | 苏州宏策光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/20 | 分类号： | G02B5/20 |
| 代理公司： | 北京高沃律师事务所 11569 | 代理人： | 马小星 |
| 地址： | 215400 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： |
本发明提供了一种用于50～100nm波段的高次谐波抑制滤片及其制备方法，属于光学元件技术领域。本发明提供的高次谐波抑制滤片，包括依次层叠设置的第一Al膜、Yb薄膜和第二Al膜。本发明中，Yb薄膜在46nm左右存在吸收边，使用Yb薄膜制备成的滤片其透射率在吸收边前后有非常明显的对比，第一Al膜和第二Al膜易氧化，会生成致密的Al |
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| 搜索关键词： | 一种 用于 50 100 nm 波段 谐波 抑制 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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