[发明专利]一种石墨烯薄膜衬底的制备方法及其应用在审
| 申请号： | 202010534433.0 | 申请日： | 2020-06-12 |
| 公开（公告）号： | CN111732071A | 公开（公告）日： | 2020-10-02 |
| 发明（设计）人： | 苗瑞霞;王少青;赵晨鹤;束体康 | 申请（专利权）人： | 西安邮电大学 |
| 主分类号： | B81B7/04 | 分类号： | B81B7/04;B81C1/00 |
| 代理公司： | 西安恒泰知识产权代理事务所 61216 | 代理人： | 李婷;国旭东 |
| 地址： | 710061 陕西*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： |
本发明公开了一种石墨烯薄膜衬底的制备方法，方法包括以下步骤：步骤S1、对石英衬底进行预处理；步骤S2、将经过预处理的石英衬底置于磁控溅射靶材底座上，采用磁控溅射法于石英衬底上形成SiO2纳米颗粒；步骤S3、将经磁控溅射处理后的石英衬底放入退火炉中，在空气流动的条件下经退火处理即得。本发明还公开了一种以本发明制备的石墨烯薄膜衬底制得的石墨烯薄膜，本发明方法避免了打磨产生的SiO |
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| 搜索关键词： | 一种 石墨 薄膜 衬底 制备 方法 及其 应用 | ||
【主权项】：
暂无信息
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