[发明专利]一种基于磁聚集效应的磁场明暗栅装置在审
申请号: | 202010535364.5 | 申请日: | 2020-06-12 |
公开(公告)号: | CN111537925A | 公开(公告)日: | 2020-08-14 |
发明(设计)人: | 李孟委;秦世洋;王旭虎 | 申请(专利权)人: | 中北大学 |
主分类号: | G01R33/09 | 分类号: | G01R33/09 |
代理公司: | 北京惠智天成知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11681 | 代理人: | 刘莹莹 |
地址: | 030051*** | 国省代码: | 山西;14 |
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摘要: | 一种基于磁聚集效应的磁场明暗栅装置,包括:磁体平台、磁场明暗栅组件和基板,磁体平台设置在磁场明暗栅组件顶部,基板设置在磁场明暗栅组件底部;磁场明暗栅组件包含:支撑框架、放大平台、支撑槽、高磁导率软磁隧尖;支撑槽滑动设置在支撑框架内,支撑槽水平设置,多个放大平台滑动设置在滑动槽内,放大平台底部设置高磁导率软磁隧尖。本发明的有益效果在于,通过高磁导率软磁隧尖将近似匀强的磁场强度聚集起来,形成一种稳定变化的高变化率磁场,使得磁敏电阻敏感到的磁场变化,在微弱的磁场变化下磁敏电阻的阻值会发生剧烈变化。同时,所设计的磁场明暗栅结构加工工艺简单、制作成本低、使用方便、可靠性好,适合微型化。 | ||
搜索关键词: | 一种 基于 聚集 效应 磁场 明暗 装置 | ||
【主权项】:
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