[发明专利]抛光介质制备装置和方法、机械化学抛光设备和方法有效
| 申请号： | 202010540873.7 | 申请日： | 2020-06-15 |
| 公开（公告）号： | CN111633563B | 公开（公告）日： | 2021-09-14 |
| 发明（设计）人： | 尹涛;赵盼盼;尹永仁;冯凯萍;张天雷 | 申请（专利权）人： | 衢州学院;嘉兴星微纳米科技有限公司 |
| 主分类号： | B24B57/02 | 分类号： | B24B57/02;C09G1/02;H01L21/306 |
| 代理公司： | 北京润平知识产权代理有限公司 11283 | 代理人： | 郑磊 |
| 地址： | 324000 *** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明涉及抛光领域，公开了一种抛光介质制备装置和方法、机械化学抛光设备和方法。其中，所述一种抛光介质制备装置包括用于储存抛光液的储液罐、用于向所述储液罐内释放预定压力气体的气压泵、第一管道和第二管道；所述第一管道的一端与所述气压泵的出气口连接，另一端从所述储液罐的进液口延伸至所述储液罐的底部；所述第二管道从所述储液罐的底部延伸至所述储液罐外；所述第一管道延伸至所述储液罐的底部的一端设置有螺旋增压结构，所述螺旋增压结构用于促进从所述第一管道释放的气体与所述储液罐内的抛光液充分混合，以形成抛光介质。通过上述技术上方案，能够制备满足高效率抛光和高品质抛光的抛光介质。 | ||
| 搜索关键词： | 抛光 介质 制备 装置 方法 机械 化学抛光 设备 | ||
【主权项】：
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