[发明专利]一种还原性气氛中制备Zr-B-N纳米复合涂层的工艺有效
| 申请号： | 202010541142.4 | 申请日： | 2020-06-15 |
| 公开（公告）号： | CN111471973B | 公开（公告）日： | 2022-07-19 |
| 发明（设计）人： | 王铁钢;许人仁;尹照星;李壮;刘艳梅;范其香 | 申请（专利权）人： | 天津职业技术师范大学（中国职业培训指导教师进修中心） |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/06;C23C14/02 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 300222 天*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： |
本发明公开了一种还原性气氛中制备Zr‑B‑N纳米复合涂层的制备工艺，属于纳米复合涂层制备技术领域。采用脉冲直流磁控溅射技术在金属或合金基体上沉积Zr‑B‑N纳米复合涂层。为提高涂层与基体的结合力，镀膜前先通入Ar气，利用电弧离子镀Cr靶对基体表面进行离子轰击清洗，然后通入N |
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| 搜索关键词： | 一种 原性 气氛 制备 zr 纳米 复合 涂层 工艺 | ||
【主权项】：
暂无信息
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