[发明专利]外观检查装置及外观检查方法在审
| 申请号： | 202010541989.2 | 申请日： | 2020-06-15 |
| 公开（公告）号： | CN112113976A | 公开（公告）日： | 2020-12-22 |
| 发明（设计）人： | 上條秀章 | 申请（专利权）人： | 日本电产三协株式会社 |
| 主分类号： | G01N21/95 | 分类号： | G01N21/95;G01N21/88 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 沈捷 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种外观检查装置及外观检查方法，能高效地进行隔着绝缘膜在厚度方向上层叠的第一配线及第二配线的检查。外观检查装置具有：照明部(10)，其向半导体器件(6)射出第一波长范围的光(L1)及第二波长范围的光(L2)；拍摄部(30)，其具备透镜单元(20)，该透镜单元针对第一波长范围的光及第二波长范围的光产生与透光膜(63)的厚度对应的轴向色差。因此，当将第一波长范围的光的焦点聚焦在第一配线(61)上时，能将第二波长范围的光聚焦在第二配线(62)上。因此，能基于由第一波长范围的光形成的第一配线的像及由第二波长范围的光形成的第二配线的像检查第一配线及第二配线的缺陷而不必改变透镜的位置，所以能缩短检查时间。 | ||
| 搜索关键词： | 外观 检查 装置 方法 | ||
【主权项】：
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