[发明专利]一种高热流密度芯片散热装置及其制作方法有效

专利信息
申请号: 202010544841.4 申请日: 2020-06-15
公开(公告)号: CN111653532B 公开(公告)日: 2021-12-21
发明(设计)人: 柯瑞林;黄佳敏;王玲;黄骏 申请(专利权)人: 深圳市数聚天源人工智能有限公司
主分类号: H01L23/367 分类号: H01L23/367;H01L23/22;H01L23/373
代理公司: 广东普润知识产权代理有限公司 44804 代理人: 寇闯
地址: 518000 广东省深圳市南山区西丽街道松坪山社*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 本申请涉及一种高热流密度芯片散热装置及其制备方法,高热流密度芯片散热装置包括散热箱体和芯片外壳,散热箱体为中空结构,芯片外壳置于散热箱体的内部,芯片封装于芯片外壳内,散热箱体和芯片外壳之间填充有散热填充物,芯片外壳的顶部嵌设有固化剂囊体和液态金属囊体,固化剂囊体内至少包括硅树脂囊层和固化剂囊层,固化剂囊层包覆硅树脂囊层,液态金属囊体内至少包括液态金属囊层。本申请实施例提供了一种高热流密度芯片散热装置及其制作方法,由于在芯片外壳顶部设置液态金属囊体和固化剂囊体,通过胶焊时施压即可实现将液态金属固定于芯片外壳顶部,并可有效防止过热时液态金属膨胀导致的焊接处断裂,更换维护成本更低。
搜索关键词: 一种 热流 密度 芯片 散热 装置 及其 制作方法
【主权项】:
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