[发明专利]一种应用于等离子体处理装置中的高均匀性气路系统在审
| 申请号： | 202010553300.8 | 申请日： | 2020-06-17 |
| 公开（公告）号： | CN113808899A | 公开（公告）日： | 2021-12-17 |
| 发明（设计）人： | 朱治友;侯永刚;张军;胡冬冬;李娜;许开东 | 申请（专利权）人： | 江苏鲁汶仪器有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 | 代理人： | 马严龙 |
| 地址： | 221300 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种应用于等离子体处理装置中的高均匀性气路系统，包括内空底座，内空底座侧壁上设有台阶，内空底座的开口覆盖设有第二匀流底板，第二匀流底板上分布有第二匀流喷嘴，第二匀流底板上部覆盖设有第一匀流底板，第一匀流底板上分布有第一匀流喷嘴，第一匀流底板上设有顶盖，顶盖上设有第一进气口和第二进气口；内空底座的内部设有陶瓷内衬，陶瓷内衬与内空底座侧壁上的台阶之间形成腔室，内空底座的底部还设有连通腔室的抽气通道。本发明中结构简单，通过各个匀流腔可均匀混合各种工艺气体，方便使用，满足高精度控制及大面积刻蚀均匀性的要求。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 应用于 等离子体 处理 装置 中的 均匀 性气 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于江苏鲁汶仪器有限公司，未经江苏鲁汶仪器有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202010553300.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：透镜的转印式制造方法及透镜转印层的制造方法
- 下一篇：风险控管装置及方法
