[发明专利]一种双石英晶振膜厚控制仪及误差校正方法有效
| 申请号： | 202010554627.7 | 申请日： | 2020-06-17 |
| 公开（公告）号： | CN111829428B | 公开（公告）日： | 2022-02-15 |
| 发明（设计）人： | 游龙;王垚元 | 申请（专利权）人： | 华中科技大学 |
| 主分类号： | G01B7/06 | 分类号： | G01B7/06;G01B21/04 |
| 代理公司： | 华中科技大学专利中心 42201 | 代理人： | 李智 |
| 地址： | 430074 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种双石英晶振膜厚控制仪及误差校正方法，属于膜厚监测领域，包括：真空室，真空室内的蒸镀源、基片结构和双石英晶振片结构，真空室外的振荡器和控制装置；基片结构内含作为镀膜载体的基片；双石英晶振片结构包括：一对或多对石英晶振片，固定在真空室内壁上的第一外壳，其面向蒸镀源的一面设有第一窗口，其内设有第一转盘，每一对石英晶振片固定于第一转盘的两面，且通过导热材料相连；振荡器用于向第一窗口处的一对石英晶振片通入相同的变化电流，使之振动；控制装置用于根据石英晶振片振动产生的电子信号计算实时膜厚，并根据计算结果控制蒸镀功率，以及控制第一转盘的转动。本发明能够提高石英晶振膜厚控制仪的膜厚测量精度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 石英 晶振膜厚 控制 误差 校正 方法 | ||
【主权项】：
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