[发明专利]一种半导体产品的清洗工艺在审
| 申请号： | 202010567136.6 | 申请日： | 2020-06-19 |
| 公开（公告）号： | CN111760847A | 公开（公告）日： | 2020-10-13 |
| 发明（设计）人： | 邓常春 | 申请（专利权）人： | 东莞市佳骏电子科技有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/12 | 分类号： | B08B3/12;B08B3/08;B08B13/00;F26B21/14;H01L21/67 |
| 代理公司： | 东莞市永桥知识产权代理事务所(普通合伙) 44400 | 代理人： | 何新华 |
| 地址： | 523808 广东省东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明系提供一种半导体产品的清洗工艺，依次包括以下步骤：超声波清洗，向第一超声波清洗机中加入环保清洗剂和若干软质清洁颗粒，将半导体产品投入第一超声波清洗剂中清洗；超声波漂洗，向第二超声波清洗机中注入无水乙醇，将半导体产品投入第二超声波清洗机中漂洗；干燥，将半导体产品放入烘干机中烘干。本发明通过超声波清洗机以及特殊组合的清洗用料，能够有效将清洗工序缩短至三个，可有效降低清洗加工线所占用的空间，从而降低土地成本，还能够显著提高清洗加工效率；清洗工作进行时，超声波清洗机使环保清洗剂充分接触半导体产品，且超声波清洗机还促使软质清洁颗粒与半导体产品充分作用，从而进一步提高清洁效果。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 半导体 产品 清洗 工艺 | ||
【主权项】：
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