[发明专利]一种含还原剂的碳化硅抛光液及其制备方法和应用在审
| 申请号： | 202010570947.1 | 申请日： | 2020-06-22 |
| 公开（公告）号： | CN111574927A | 公开（公告）日： | 2020-08-25 |
| 发明（设计）人： | 孙韬;陈腾飞;张泽芳 | 申请（专利权）人： | 宁波日晟新材料有限公司;上海工程技术大学 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;H01L21/02 |
| 代理公司： | 宁波知坤专利代理事务所(特殊普通合伙) 33312 | 代理人： | 李小伟 |
| 地址： | 315410 浙*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种含还原剂的碳化硅抛光液，所述碳化硅抛光液由研磨剂颗粒、还原剂、硝酸和去离子水组成，且所述碳化硅抛光液pH值为1～7。本发明的碳化硅抛光液，不仅具有切削率高，表面质量稳定，循环使用寿命长的优点，而且无挥发性和重金属污染问题，易于长期储存，尤其适用于难加工的含硅表面的超精密光学器件或半导体功率器件的表面抛光。本发明还公开了一种含还原剂的碳化硅抛光液的制备方法和应用。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 还原剂 碳化硅 抛光 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
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