[发明专利]阵列基板及阵列基板制作方法有效

专利信息
申请号: 202010572550.6 申请日: 2020-06-22
公开(公告)号: CN111697008B 公开(公告)日: 2023-07-14
发明(设计)人: 台运东;李广圣;叶宁;曾柯 申请(专利权)人: 成都京东方显示科技有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/77;H10K59/12;G02F1/1362
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 朱颖;刘芳
地址: 610200 四川省成*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明实施例属于显示设备技术领域,具体涉及一种阵列基板及阵列基板制作方法。本发明实施例旨在解决相关技术中栅线的厚度较大,容易导致与栅线正对的数据线断裂的技术问题。本发明实施例提供的阵列基板及阵列基板制作方法,栅线包括交叉区,交叉区在基底上的投影与数据线在基底上的投影交叉;交叉区包括沿垂直于基底方向依次设置多个台阶;在远离基底的方向上,多个台阶在基底上的投影面积逐渐减小;在形成栅极绝缘层后,每一台阶对应的栅极绝缘层上形成一个凸起;与交叉区未设置多个台阶相比,每一台阶沿垂直于基底方向的厚度较小,减小了段差,在栅极绝缘层上形成第二导电层时,每一台阶上的第二导电层不易发生脱离,进而避免了数据线断裂。
搜索关键词: 阵列 制作方法
【主权项】:
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