[发明专利]均匀分配气体的装置在审
| 申请号： | 202010586834.0 | 申请日： | 2020-06-24 |
| 公开（公告）号： | CN113838735A | 公开（公告）日： | 2021-12-24 |
| 发明（设计）人： | 周仁;荒见淳一;侯彬;安超;柴智 | 申请（专利权）人： | 拓荆科技股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/67 |
| 代理公司： | 沈阳维特专利商标事务所(普通合伙) 21229 | 代理人： | 李丹 |
| 地址： | 110179 辽*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 本发明揭示一种均匀分配气体的装置，安装于一等离子体源产生装置与一喷淋组件之间，包含：一本体，该本体设有一气体通道及复数个通孔，该气体通道系设于该本体的中央位置处，而该复数个通孔环设于该气体通道的周围，且该复数个通孔呈一角度斜置于该本体内，该复数个通孔具有一入口及一出口，该入口的孔径大于该出口的孔径。 | ||
| 搜索关键词： | 均匀 分配 气体 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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