[发明专利]一种改善聚酰亚胺材料涂覆效果的工艺有效
| 申请号： | 202010588508.3 | 申请日： | 2020-06-24 |
| 公开（公告）号： | CN111722472B | 公开（公告）日： | 2023-02-28 |
| 发明（设计）人： | 孙会权;邢栗;张龙彪;孙元斌 | 申请（专利权）人： | 沈阳芯源微电子设备股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16 |
| 代理公司： | 沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002 | 代理人： | 于晓波 |
| 地址： | 110168 辽*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种改善聚酰亚胺材料涂覆效果的工艺，属于半导体行业光刻技术领域。该方法步骤：(1)将晶圆送入涂胶单元，喷涂光阻稀释剂RRC，以增加光刻胶流动性；(2)使晶圆旋转，在晶圆表面形成一层RRC膜；(3)使光刻胶喷嘴喷涂光刻胶，喷涂光刻胶后，先使晶圆在转速V1时高速旋转T1时间，使晶圆上光刻胶铺展，该步骤决定了胶膜的厚度；然后降低晶圆转速至V2并旋转T2时间，使晶圆边缘光刻胶迅速回流；涂覆完后，晶圆边缘胶膜厚度均匀性良好；(4)晶圆传入热盘中进行烘烤，再经曝光、显影和冷盘冷却后，传回片盒。本发明在保证标准SPEC的前提下，提高了工艺质量，并减少了生产中的缺陷，在实际生产中实用效果显著。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 改善 聚酰亚胺 材料 效果 工艺 | ||
【主权项】：
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