[发明专利]加热处理装置以及加热处理方法在审

专利信息
申请号: 202010592474.5 申请日: 2020-06-24
公开(公告)号: CN112185847A 公开(公告)日: 2021-01-05
发明(设计)人: 高木慎介;久我恭弘;大塚幸信;相良慎一 申请(专利权)人: 东京毅力科创株式会社
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67;H01L21/683
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇;张会华
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及一种加热处理装置以及加热处理方法。抑制在对基板进行加热时产生的升华物所带来的不良影响。一种加热处理装置,其在处理容器内对形成有涂布膜的基板进行加热,该加热处理装置具有:载置部,其设于所述处理容器内,用于载置所述基板;加热部,其用于对载置于所述载置部的基板进行加热;抽吸管,其与形成于所述载置部的抽吸口相通,贯穿所述载置部并向正下方延伸;以及收集容器,其设于所述抽吸管和抽吸机构之间的抽吸路径,所述收集容器构成为,设于俯视时所述载置部的正下方,与所述抽吸管连接,用于收集所述处理容器内的升华物。
搜索关键词: 加热 处理 装置 以及 方法
【主权项】:
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