[发明专利]一种CF工序光刻胶返工液组合物有效
| 申请号： | 202010592608.3 | 申请日： | 2020-06-24 |
| 公开（公告）号： | CN111638632B | 公开（公告）日： | 2022-08-05 |
| 发明（设计）人： | 刘小勇;李丛香;房龙翔 | 申请（专利权）人： | 福建省佑达环保材料有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 福州元创专利商标代理有限公司 35100 | 代理人： | 修斯文;蔡学俊 |
| 地址： | 362100 福建省*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种CF工序光刻胶返工液组合物，属于湿电子化学品领域。按质量百分比计，所述组合物包含以下组分：0.5‑40%的无机碱性物质，0.5‑45%的有机胺，0.1‑50%的质子性极性有机溶剂，0.1‑50%的非质子极性有机溶剂，0.1‑30%的环状醇类化合物，0.01‑10%的化学式A‑Gemini型表面活性剂，其余量为水。本发明的组合物可以有效去除CF工序中玻璃基板上的不良光刻胶，具有剥离性能强，剥离时间短，操作温度低等优点，且不会对基板玻璃造成腐蚀，对光刻胶的分散性好，可以最大程度的降低滤芯的堵塞情况，并且挥发性小，低泡，易漂洗，对环境无污染。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 cf 工序 光刻 返工 组合 | ||
【主权项】：
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