[发明专利]真空系统中光学元件表面沉积污染物的去除方法在审
| 申请号： | 202010595418.7 | 申请日： | 2020-06-28 |
| 公开（公告）号： | CN111957675A | 公开（公告）日： | 2020-11-20 |
| 发明（设计）人： | 王胭脂;郭可升;陈瑞溢;张宇辉;朱晔新;朱美萍;张伟丽;王建国;孙建;易葵;邵建达 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | B08B7/00 | 分类号： | B08B7/00;B08B13/00 |
| 代理公司： | 上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31317 | 代理人： | 张宁展 |
| 地址： | 201800 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种真空系统中光学元件表面沉积污染物的原位去除方法，本发明通过引入离子源及中和器到真空系统中，利用离子源轰击真空装置中的元件，以消除真空释气沉积污染。本发明适用于真空激光系统中激光光学元件表面污染物原位去除、且不引入新的杂质，可大幅度提高污染物去除效率，提高元件抗激光损伤性能及使用寿命。 | ||
| 搜索关键词： | 真空 系统 光学 元件 表面 沉积 污染物 去除 方法 | ||
【主权项】：
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