[发明专利]一种硅基底薄膜的制备方法在审

专利信息
申请号: 202010596546.3 申请日: 2020-06-28
公开(公告)号: CN111892013A 公开(公告)日: 2020-11-06
发明(设计)人: 郑泉水;柏帆 申请(专利权)人: 深圳清华大学研究院;清华大学
主分类号: B81B5/00 分类号: B81B5/00;B81C1/00
代理公司: 深圳市惠邦知识产权代理事务所 44271 代理人: 满群
地址: 518057 广东省深圳市*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明提供一种硅基底薄膜的制备方法,在硅基底上涂布光刻胶,在涂胶面预先开槽,控制槽的深度和宽度,并利用酸溶液进行平整化处理,待硅基底毛边处理干净之后去胶、清洗、烘干、镀膜,再用薄金刚石刀片,沿着预开槽的中心线将硅基底完全切开,获得完整的硅基底薄膜,边缘无破损。
搜索关键词: 一种 基底 薄膜 制备 方法
【主权项】:
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