[发明专利]基于二氟化硼配位的扩环卟啉配合物的近红外发光材料有效
| 申请号： | 202010601204.6 | 申请日： | 2020-06-28 |
| 公开（公告）号： | CN111635423B | 公开（公告）日： | 2023-03-31 |
| 发明（设计）人： | 杨云芳;房晓莉;佘远斌;周春松;李贵杰 | 申请（专利权）人： | 浙江工业大学 |
| 主分类号： | C07F5/02 | 分类号： | C07F5/02;C09K11/06;A61K41/00;A61K49/10 |
| 代理公司： | 杭州求是专利事务所有限公司 33200 | 代理人： | 邱启旺 |
| 地址： | 310014 浙*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种基于二氟化硼配位的苯并扩环卟啉的近红外发光材料，所述苯并扩环卟啉的二氟化硼配合物中，苯环取代吡咯环，极大地提高苯并扩环卟啉大环分子的稳定性；本发明的苯并扩环卟啉二氟化硼配合物近红外发光材料发射波长处于红光范围内，可以强烈发光，是很好的红光发光材料；相比于其它的苯环取代的卟啉，本发明中的分子明显发生了较大的红移，使其广泛应用于光动力研究、核磁成像造影剂等。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 氟化 硼配位 卟啉 配合 红外 发光 材料 | ||
【主权项】：
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