[发明专利]一种多管CVD系统在审
申请号: | 202010610724.3 | 申请日: | 2020-06-29 |
公开(公告)号: | CN111850521A | 公开(公告)日: | 2020-10-30 |
发明(设计)人: | 孔令杰;李晓丽 | 申请(专利权)人: | 合肥百思新材料研究院有限公司 |
主分类号: | C23C16/54 | 分类号: | C23C16/54 |
代理公司: | 合肥正则元起专利代理事务所(普通合伙) 34160 | 代理人: | 韩立峰 |
地址: | 238000 安徽省合肥市巢*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本发明公开了一种多管CVD系统,本发明通过设置的顶部两组开启式管式炉体和中部六组封闭式管式炉体的配合使用,开启式管式炉体和中部六组封闭式管式炉体之间通过导流管道连接,通过若干个第一截止阀、第二截止阀和第三截止阀控制各管式炉独立的真空抽气和通入的保护气体使用情况,配合机械真空泵进行真空抽气操作,可以达到开启式管式炉体和封闭式管式炉体独立使用的效果,同时可以进行多组对比实验;通过将两组开启式管式炉体和六组封闭式管式炉体集成于一体,以实现单独使用各个设备,避免造成实验室空间的挤占,使用多台设备对比可能造成的麻烦;而且大大节约了实验室的空间,很好的解决了实验室空间紧张的问题。 | ||
搜索关键词: | 一种 cvd 系统 | ||
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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