[发明专利]全空域曲面阵多标校区域联合标校方法有效
| 申请号： | 202010615914.4 | 申请日： | 2020-06-29 |
| 公开（公告）号： | CN111830332B | 公开（公告）日： | 2022-10-28 |
| 发明（设计）人： | 曾富华;潘云强;吴述敏 | 申请（专利权）人： | 西南电子技术研究所(中国电子科技集团公司第十研究所) |
| 主分类号： | G01R29/10 | 分类号： | G01R29/10;H04B17/12;H04B17/21 |
| 代理公司： | 成飞(集团)公司专利中心 51121 | 代理人： | 郭纯武 |
| 地址： | 610036 四川*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明提出的一种全空域曲面阵多标校区域联合标校方法，用于大型共形曲面相控阵系统全空域标校。本发明通过下述技术方案予以实现：首先将相控阵系统标校区域划分为M层，根据每个标校区域的方位角和俯仰角，计算每个标校区域指向的方向图矢量；判断每个标校区域所包含的阵元；利用飞行器，搭载标校设备依次飞行到每个标校区域的指向向量方向，对该标校区域所包含的所有阵元依次进行标校，得到每个标校区域所包含阵元的标校相位，联合所有标校区域的标校相位，对各标校区域可能存在的相位系统差进行估计和补偿，同时去除重复标校的阵元，从每个标校区域选择部分阵元的标校相位，得到全阵的标校相位。 | ||
| 搜索关键词： | 空域 曲面 阵多标 校区 联合 校方 | ||
【主权项】：
暂无信息
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