[发明专利]改进的干膜配方、流体喷射头及其制作方法在审
| 申请号： | 202010616270.0 | 申请日： | 2020-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN112213921A | 公开（公告）日： | 2021-01-12 |
| 发明（设计）人： | 尚恩·T·威佛 | 申请（专利权）人： | 船井电机株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/075 | 分类号： | G03F7/075;G03F7/004;B41J2/14;B41J2/16 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 马爽;臧建明 |
| 地址： | 日本大阪府大*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种改进的感光成像干膜配方、含有衍生自改进的感光成像干膜配方的厚膜层的流体喷射头以及制作流体喷射头的方法。改进的感光成像干膜配方包含多官能环氧化合物、能够产生阳离子的光引发剂、非光反应性溶剂及以干燥前的感光成像干膜配方的总重量计约0.5重量％到约5重量％的硅烷寡聚物粘合增强剂。 | ||
| 搜索关键词： | 改进 配方 流体 喷射 及其 制作方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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