[发明专利]一种SiC晶圆抛光液及其制备方法和应用在审
| 申请号： | 202010620169.2 | 申请日： | 2020-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN111748287A | 公开（公告）日： | 2020-10-09 |
| 发明（设计）人： | 汪为磊;刘卫丽;霍军朝;宋志棠;许永辉 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所;上海新安纳电子科技有限公司;浙江新创纳电子科技有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;H01L21/306 |
| 代理公司： | 上海泰能知识产权代理事务所 31233 | 代理人： | 魏峯;黄志达 |
| 地址： | 200050 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种SiC晶圆抛光液及其制备方法和应用，按重量百分比，包括如下组分：液相载体35‑90％；磨料颗粒0.01‑40％；氧化剂0.01‑30％。本发明通过选择合理的磨料颗粒和氧化剂并进行合理组合，使得抛光液的抛光质量、抛光速率亦获得很大提升；制备方法简单，成本低，具有良好的应用前景。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 sic 抛光 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
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