[发明专利]一种偏振器件及其制备方法有效
申请号: | 202010630086.1 | 申请日: | 2020-07-03 |
公开(公告)号: | CN111736260B | 公开(公告)日: | 2021-11-19 |
发明(设计)人: | 欧欣;王成立 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 |
主分类号: | G02B6/126 | 分类号: | G02B6/126;G02B6/12;G02B6/13 |
代理公司: | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人: | 郝传鑫;贾允 |
地址: | 200050 *** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及集成光学技术领域,特别涉及一种偏振器件及其制备方法。包括:支撑层和模式筛选层,所述支撑层用于支撑所述所述模式筛选层;所述模式筛选层包括光吸收层和光隔离层,所述光吸收层设置在所述支撑层上,所述光隔离层设置在所述光吸收层上;所述光吸收层用于吸收预设光波导模式的光。光吸收层可以选择性吸收TM模式以及其他高阶模式的光波,光隔离层可以限制光吸收层对光波能量的吸收程度。本申请所述的偏振器件对光偏振的控制,是基于整个电路衬底进行改进来实现的,当光学结构大规模的在片上集成时,模式筛选层可对所有的光学结构中的光波进行偏振筛选,因此无须在光路上重复制备大量偏振控制结构,降低了工艺难度。 | ||
搜索关键词: | 一种 偏振 器件 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院上海微系统与信息技术研究所,未经中国科学院上海微系统与信息技术研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202010630086.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:云游戏数据反馈方法及装置
- 下一篇:一种模具自动出料机构