[发明专利]一种增强光刻图形分辨率的方法有效
| 申请号： | 202010638024.5 | 申请日： | 2020-07-03 |
| 公开（公告）号： | CN111856889B | 公开（公告）日： | 2023-03-31 |
| 发明（设计）人： | 许箭;袁华;耿文练;孙小侠 | 申请（专利权）人： | 儒芯微电子材料（上海）有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海剑秋知识产权代理有限公司 31382 | 代理人： | 杨飞 |
| 地址： | 201206 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种增强光刻图形分辨率的方法，其包括在衬底上依次形成第一胶层和第二胶层；通过光刻曝光工艺在所述第一胶层上形成曝光区和非曝光区；采用第一溶剂去除所述曝光区和所述第二胶层的部分区域，或者先采用第二溶剂去除所述曝光区，再采用第三溶剂去除所述第二胶层的部分区域，从而在所述第一胶层形成第一图案，在所述第二胶层形成第二图案，所述第二图案是在所述第一图案基础上缩进后的图案；采用第四溶剂去除所述非曝光区。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 增强 光刻 图形 分辨率 方法 | ||
【主权项】：
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