[发明专利]一种基于气体电离室的真空紫外波长校准装置有效

专利信息
申请号: 202010644796.X 申请日: 2020-07-07
公开(公告)号: CN113916386B 公开(公告)日: 2022-11-08
发明(设计)人: 孙广尉;孙红胜;王加朋;杜继东;杨旺林;张玉国;吴柯萱 申请(专利权)人: 北京振兴计量测试研究所
主分类号: G01J9/00 分类号: G01J9/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 100074 北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种基于气体电离室的真空紫外波长校准装置,包括:真空紫外光源为气体放电光源,前端窗口为氟化镁窗口,用来提供覆盖120nm~200nm波段范围的光谱能量;真空紫外单色分光系统包括入射狭缝、分光光栅、出射狭缝,真空紫外光源的光经入射狭缝进入,经分光光栅分光形成单色光,经出射狭缝出射;真空紫外准直系统包括多片光学镜片,使得真空紫外准直系统的焦面位置与真空紫外单色分光系统的出射狭缝位置重合,对真空紫外单色分光系统的出射光进行准直,形成平行光出射;真空紫外漫射系统为长方形,铝基底材料进行打磨制成,其表面为漫反射表面;真空紫外切换机构为圆形转台或平移导轨,可将漫射系统移入移出。
搜索关键词: 一种 基于 气体 电离室 真空 紫外 波长 校准 装置
【主权项】:
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