[发明专利]磁流变抛光魔法角度-步距下无中频误差的加工方法有效
| 申请号： | 202010645628.2 | 申请日： | 2020-07-07 |
| 公开（公告）号： | CN111906596B | 公开（公告）日： | 2021-10-08 |
| 发明（设计）人： | 魏朝阳;万嵩林;邵建达;顾昊金 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | B24B1/00 | 分类号： | B24B1/00 |
| 代理公司： | 上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31317 | 代理人： | 张宁展 |
| 地址： | 201800 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种磁流变抛光魔法角度‑步距下无中频误差的加工方法，步骤为：首先测量得到磁流变去除函数，同时确定机床的控制精度；对去除函数进行二维傅里叶变换，并基于机床控制精度对频谱进行补偿滤波，分析滤波后二维频谱在魔法角度方向下的幅值最低点的对应步距；通过调整加工路径的方向或磁流变抛光轮的姿态使得抛光轮与路径的夹角呈魔法角度的基础下，规划给定步距下的栅格路径；最终控制机床加工。本发明不需要任何附加成本，仅需改变去除函数与路径之间的夹角和路径步距至理论分析得到的最优值，轨迹状中频误差幅值理论上即可远远低于其他加工噪声而消失。该方法能实现无中频加工，且对元件低频、高频误差无任何影响。 | ||
| 搜索关键词： | 流变 抛光 魔法 角度 步距下无 中频 误差 加工 方法 | ||
【主权项】：
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