[发明专利]半导体装置在审

专利信息
申请号: 202010648988.8 申请日: 2020-07-07
公开(公告)号: CN112310094A 公开(公告)日: 2021-02-02
发明(设计)人: 李海旻;金钟源;姜信焕;金森宏治;韩智勋 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: H01L27/11524 分类号: H01L27/11524;H01L27/11556;H01L27/1157;H01L27/11582
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 赵南;张帆
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种半导体装置,包括:第一堆叠件组,其具有交替且重复地堆叠在衬底上的第一层间绝缘层和第一栅极层;以及第二堆叠件组,其包括交替且重复地堆叠在第一堆叠件组上的第二层间绝缘层和第二栅极层。分离结构穿过第一堆叠件组和第二堆叠件组,并包括第一分离区域和第二分离区域。竖直结构穿过第一堆叠件组和第二堆叠件组,并包括第一竖直区域和第二竖直区域。导电线电连接到第二堆叠件组上的竖直结构。第一竖直区域的上端与衬底的上表面之间的距离大于第一分离区域的上端与衬底的上表面之间的距离。
搜索关键词: 半导体 装置
【主权项】:
暂无信息
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