[发明专利]一种快速测量高反光空间目标材质的方法有效
| 申请号： | 202010651854.1 | 申请日： | 2020-07-08 |
| 公开（公告）号： | CN111751328B | 公开（公告）日： | 2021-04-09 |
| 发明（设计）人： | 代京京;赵思思;王智勇;张景豪 | 申请（专利权）人： | 北京工业大学;北京空间机电研究所 |
| 主分类号： | G01N21/47 | 分类号： | G01N21/47 |
| 代理公司： | 北京汇信合知识产权代理有限公司 11335 | 代理人： | 周文 |
| 地址： | 100124 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种快速测量高反光空间目标材质的方法，包括：超连续谱激光光源经过实验系统光路准直后入射到待测样品上；超连续谱激光经待测样品散射后，散射光信号被光电探测器接收；光电探测器输出信号至信号处理系统进行处理，得到待测样品的激光雷达散射截面；基于激光雷达散射截面和双向反射分布函数之间的函数关系，获得待测样品表面的双向反射分布函数；将获得的双向反射分布函数在已有的双向反射分布函数特征库中进行匹配，识别出待测样品的表面材料。本发明可以快速计算太阳光照射下被测材质的双向反射分布函数，基于双向反射分布函数特征库进行匹配分析，可识别出待测样品的表面材料。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 快速 测量 反光 空间 目标 材质 方法 | ||
【主权项】：
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