[发明专利]一种新型光电双响应阻变存储器件及其制备方法和应用有效
申请号: | 202010652679.8 | 申请日: | 2020-07-08 |
公开(公告)号: | CN111834525B | 公开(公告)日: | 2022-03-11 |
发明(设计)人: | 张斌;侯杰;李真;樊菲 | 申请(专利权)人: | 华东理工大学 |
主分类号: | H01L45/00 | 分类号: | H01L45/00;G11C16/14;B82Y10/00;B82Y30/00 |
代理公司: | 上海三和万国知识产权代理事务所(普通合伙) 31230 | 代理人: | 任艳霞 |
地址: | 200237 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: |
本发明属于信息存储技术领域,公开了一种新型光电双响应阻变存储器件及其制备的方法。具体包括如下步骤:首先使用机械剥离,将块状黑磷剥离成黑磷量子点;其次,将黑磷量子点和C |
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搜索关键词: | 一种 新型 光电 双响 应阻变 存储 器件 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】:
暂无信息
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